VPC42系列真空等離子清洗機(jī)是為研發(fā)型以及小批量工業(yè)生產(chǎn)級(jí)客戶而設(shè)計(jì)的等離 子體表面清洗設(shè)備，配置豐富，且真空腔體里可分層，適合大多數(shù)生產(chǎn)場(chǎng)景。適用于等離子清洗，活化以及刻蝕等多種應(yīng)用，主要用于硅晶圓、玻璃基板、陶瓷基板、IC載板、銅引線框架、大尺寸單面基板電源板、IGBT模塊、帶治具的MEMS傳感器、微波器件、濾波器、射頻器件等半導(dǎo)體封裝領(lǐng)域的等離子表面處理工藝。設(shè)備穩(wěn)定，產(chǎn)品處理重復(fù)性、一致性好。?

VPC42系列真空等離子清洗機(jī)軟件控制系統(tǒng)，操作簡(jiǎn)單，能接控制設(shè)備及設(shè)定各種 清洗工藝，并根據(jù)工藝不同進(jìn)行設(shè)定、修改、存儲(chǔ)、調(diào)用；軟件控制系統(tǒng)自動(dòng)的實(shí)時(shí)記錄清洗工藝參數(shù)、時(shí)間、報(bào)警相關(guān)數(shù)據(jù)，保證產(chǎn)品清洗工藝的可追溯性。

1.PLC控制整個(gè)清洗過程，全自動(dòng)進(jìn)行。?

2.射頻電源功率可控，滿足不同工況使用。?

3.真空度更低，保證工件在低氧環(huán)境中清洗，有效防止氧化。?

4.彩色觸摸屏互動(dòng)操作界面，實(shí)時(shí)工作參數(shù)狀態(tài)直觀顯示。?

5.通過晶圓料盒，機(jī)械手自動(dòng)上料。?

6.數(shù)字流量計(jì)控制，控制更準(zhǔn)確。標(biāo)配雙路氣體，可選多氣路。可輸入氧氣、氬氣、 氮?dú)狻⑺姆肌錃饣蚧旌蠚怏w等氣體。?

處理高效均勻，工藝重復(fù)性好。?

7.合理的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，采用上開蓋式傳送方式，配置FFU潔凈系統(tǒng)。?

8.設(shè)備配置二流體清洗單元，最大流量2L/min；旋轉(zhuǎn)甩干，最大旋轉(zhuǎn)速度：2000rpm。?

9.氧化硅晶圓活化處理后表面接觸角＜5°；氧化層厚度變化量＜1nm； 粗糙度Ra變化＜0.5nm。